發(fā)布時間：2026年04月11日 14:08 來源：中國新聞網
4月10日，浙江大學極端光學技術與儀器全國重點實驗室在杭州舉辦成果發(fā)布會，宣布成功研發(fā)萬通道3D納米激光直寫光刻機，為超分辨光刻、光子芯片制造、高端掩模版加工等領域提供關鍵技術支撐。
據悉，該激光直寫光刻機的加工精度可達亞30納米，加工速率可達42.7平方毫米/分鐘，最大刻寫尺寸覆蓋12 英寸硅片，為大面積微納結構的高通量、高精度制造提供了新途徑。(吳君毅 莊蕙語)
責任編輯：【羅攀】
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